对于光化学氧化技术我们先来了解下，光化学氧化法包括光敏化氧化，光激发氧化，光催化氧化三种工艺，所用光主要为紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工艺。光化学氧化法是在化学氧化和光辐射的共同作用下，使氧化反应在速率和氧化能力上比单独的化学氧化、辐射是目前一项高级氧化的污水处理技术。能无选择地将绝大多数有机物彻底氧化成CO2、H2O和其它无机物，反应速度快，耗时短。它对难降解而具有毒性的小分子有机物去除效果极佳。
经过调查研究发现，对于印染废水其主要是来源于染料的颜色染料分子的共扼体系—含不饱和基团-N=N-、-N=O等的发色体。利用光化学氧化工艺上的特点和染料污水的分子结构特征，处理印染污水光化学氧化产生的羟基自由基能够有效打破共扼体系结构，使之变成无色的有机分子，并进一步矿化为H2O、CO2和其他无机物质，使印染污水处理得到净化。
经过多家印染公司的实践，印染厂污水处理工艺采用光化学氧化技术在印染废水处理方面具有其他工艺所无可比拟的优势。但是由于运行成本较大，目前多数多只用于大型印染企业和预算高、要求高的企业。
